ผู้ผลิตในจีน 99.95% เป้าหมายของ Ta Sputtering Tantalum

บ้าน > ผลิตภัณฑ์ > ผลิตภัณฑ์แทนทาลัม > เป้าหมายแทนทาลัม > 99.95% เป้าหมายของ Ta Sputtering Tantalum

ประเภทผลิตภัณฑ์

ผลิตภัณฑ์ทังสเตน ( 371 )

ผลิตภัณฑ์โมลิบดีนัม ( 167 )

ผลิตภัณฑ์แทนทาลัม ( 113 )

ผลิตภัณฑ์ไนโอเบียม ( 38 )

ผลิตภัณฑ์อื่น ( 72 )

บริการออนไลน์

ติดต่อ: Mr. zhichun Fu
ดูรายละเอียดผู้ติดต่อ

ติดต่อตอนนี้

99.95% เป้าหมายของ Ta Sputtering Tantalum

ใช้ร่วมกันกับ:

ชนิดการชำระเงิน:	L/C,T/T,D/P,Money Gram,Western Union
Incoterm:	FOB,CFR,CIF,FCA,CPT,CIP
สั่งขั้นต่ำ:	5 Bag/Bags
เวลาจัดส่ง:	15 วัน

ข้อมูลพื้นฐาน

หมายเลขรุ่น: ZHIPU001

Application:: Vacuum Coating

Dimensions:: As Request

Density:: 16.6g/cm3

Product Name:: Tantalum Target

Shape:: Round/as Request

Purity:: 99.95%

Melting Point:: 2980℃

Certificate:: ISO9001:2008

Supply Ability:: Sustainable And Efficient

Material:: 99.95% Tantalum

Additional Info

บรรจุภัณฑ์: ผู้จัดจำหน่ายที่ดีที่สุดจากประเทศจีนจะบรรจุด้วย: 1> บรรจุภัณฑ์แรกที่มีกระดาษทนความชื้น 2> บรรจุภัณฑ์ที่สองด้วย kraftpape 3> บรรจุภัณฑ์ที่สามด้วยพลาสติกโฟมในทุกด้านของกล่องไม้อัด 4> สุดท้ายบรรจุผลิตภัณฑ์ในกล่องไม้อัด

ผลผลิต: 100kg

แบรนด์: Zhipu

การเดินทาง: Ocean,Land,Air

สมุฏฐาน: มณฑลส่านซี

ความสามารถในการจัดหา: 100kg

ใบรับรอง: ISO9001

ท่าเรือ: Tianjin,Qingdao,Shanghai

คำอธิบายผลิตภัณฑ์

99.95% Ta Sputtering แทนทาลัมเป้าหมายเป็นผลิตภัณฑ์หลักของ บริษัท ของเรา 99.95% เป้าหมายของ Ta Sputtering Tantalum ถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมที่ใช้โดยเฉพาะอย่างยิ่งในเตาเผาผลึกเดี่ยวและเตาสูญญากาศ
99.95% เป้าหมายของ Ta Sputtering Tantalum เป็นโลหะทนไฟและ 99.95% Ta Sputtering แทนทาลัมเป้าหมาย เอชเป็นจุดหลอมเหลวสูง ดังนั้นคุณสมบัติของ 99.95% Ta Sputtering แทนทาลัมเป้าหมาย ทนต่ออุณหภูมิสูง

target

Product name	99.95% Ta Sputtering Tantalum Target
Material	Tantalum
Processing way	According to drawing processing, according to sample processing
Processing technology	Casting,forging,rolling,stamping,tailoring,car milling planer grinding drilling and boring etc.